掩模尺寸和晶圆尺寸相同,并直接与光刻胶胶层接触进行曝光。
它是一种冷壁工艺,只要将衬底控制到一定温度就行了
减少输出输入之间的电磁干扰,尤其是对于小信号高增益放大器特别重要,设计不当会引起不希望的反馈,造成电路自激