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集成电路工艺原理判断题每日一练(2019.12.16)
判断题
栅氧一般通过热生长获得。
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判断题
离子注入的缺点之一是注入设备的复杂性。
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判断题
当硅片暴露在空气中时，会立刻生成一层无定形的氧化硅薄膜。
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判断题
离子注入工艺中被掺杂的材料称为靶，靶材料可以是晶体，也可以是非晶体，非晶靶也称为无定形靶。
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判断题
管芯在芯片表面上的位置安排应考虑材料的解理方向，而解理向的确定应根据定向切割硅锭时制作出的定位面为依据。
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