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微电子学判断题每日一练(2019.11.15)
判断题
离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度，因而在几乎所有应用中都优于扩散。
答案：
错误
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判断题
在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
答案：
正确
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判断题
双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。
答案：
错误
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判断题
对于一个PN结，如果反偏电压降低，耗尽区宽度将减小。
答案：
正确
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判断题
蒸发最大的缺点是不能产生均匀的台阶覆盖，但是可以比较容易的调整淀积合金的组分
答案：
错误
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