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半导体芯片制造工比较题每日一练(2019.06.25)
问答题
什么叫光刻?光刻工艺质量的基本要求是什么?
答案:
光刻是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技术。
对光刻工艺质量的基本要求是:刻蚀的图形完整、尺寸准确、...
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问答题
简述在芯片制造中对金属电极材料有什么要求?
答案:
1、能很好的阻挡材料扩散;
2、高电导率,低欧姆接触电阻;
3、在半导体和金属之间有很好的附着能力;...
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判断题
硅MOSFET和硅JFET结构相同。()
答案:
错误
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填空题
在半导体制造工艺中往往把减薄、划片、分片、装片、内引线键合和管壳封装等一系列工艺称为()。
答案:
组装
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判断题
位错就是由范性形变造成的,它可以使晶体内的一原子或离子脱离规则的周期排列而位移一段距离,位移区与非位移区交界处必有原子的错位,这样产生线缺陷称为位错。()
答案:
正确
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