大学试题
集成电路技术判断题每日一练(2019.05.10)
来源:考试资料网
判断题
热氧化过程中是硅向二氧化硅外表面运动,在二氧化硅表面与氧化剂反应生成二氧化硅。
参考答案:
错
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判断题
纯净的半导体是一种有用的半导体。
参考答案:
错
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判断题
扩散运动是各向同性的。
参考答案:
错
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判断题
离子注入是唯一能够精确控制掺杂的手段。
参考答案:
对
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判断题
曝光后烘焙,简称后烘,其对传统I线光刻胶是必需的。
参考答案:
对
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