集成电路技术综合练习问答题每日一练(2019.01.25)

问答题
进一步提高MESFET性能的措施是什么？
答案：
改进有源层的导电能力
问答题
MOS晶体管的短沟道效应是指什么，其对晶体管有什么影响？
答案：短沟道效应是指：当MOS晶体管的沟道长度变短到可以与源漏的耗尽层宽度相比拟时，发生短沟道效应，栅下耗尽区电荷不再完全受栅...
问答题
何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？
答案：分辨率：是指一个光学系统精确区分目标的能力
对比度：是评价成像图形质量的重要指标
要求：分辨率越来越...
问答题
异质结有什么特点？它适宜于制作哪些器件？
答案：
量子效应，迁移率变大、奇异的二度空间特性、人造材料工程学
发光组件、镭射二极管、异质结构双极晶体管、高速电子迁移率晶体管
问答题
解决数模信号之间串扰的措施有哪些？
答案：1.可以将模拟和数字电源地分离
2.可以将模拟电路和数字电路、模拟总线和数字总线应尽量分开而不交叉混合