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集成电路制造工艺员（三级）单项选择题每日一练(2019.01.24)
单项选择题
电离气体与普通气体的不同之处在于：后者是由电中性的分子或原子组成的，前者则是（）和中性粒子组成的集合体。
A.离子
B.原子团
C.电子
D.带电粒子
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单项选择题
半导体硅常用的受主杂质是（）。
A.锡
B.硫
C.硼
D.磷
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单项选择题
半导体硅常用的施主杂质是（）。
A.锡
B.硫
C.硼
D.磷
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单项选择题
在空位扩散中，如果迁移到空位的原子是基质原子，扩散属于（）。
A.推挤扩散
B.杂质扩散
C.填隙扩散
D.自扩散
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单项选择题
为了避免（）在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀，必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。
A.多晶硅
B.单晶硅
C.铝硅铜合金
D.铜
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