集成电路技术综合练习问答题每日一练(2019.01.22)

问答题
什么是整版接触式曝光？
答案：
掩模尺寸和晶圆尺寸相同，并直接与光刻胶胶层接触进行曝光。
问答题
电学设计规则与几何设计规则的区别是什么？
答案：区别：手工设计集成电路或单元中，几何设计规则是图形编辑的依据，电学设计规则是分析计算的依据。VLSI设计中，几何设计规则...
问答题
为什么同一芯片上的集成元件可以达到比较高的匹配精度？
答案：
由于芯片面积很小且经历的加工条件几乎相同
问答题
在正式用Cadence画版图之前要先构思或想一想哪些问题？
答案：
仔细想一想每个管子应该怎样安排，管子之间怎样连接，最后的电源线、地线怎样走
问答题
集成电路中形成电阻有几种方式？各种电阻有什么特点？
答案：晶体管结构中不同材料层的片式电阻：能实现从10欧姆到十几千欧姆范围，但是电阻值随温度和工艺变化较大
专门加工制...