大学试题
微电子学判断题每日一练(2019.01.18)
来源:考试资料网
判断题
CMOS电路与双极集成电路相比速度快。
参考答案:
错
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判断题
在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
参考答案:
对
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判断题
如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。
参考答案:
错
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判断题
双极集成电路中的晶体管工作机理依赖于电子或者空穴。
参考答案:
错
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判断题
对于一个PN结,如果反偏电压降低,耗尽区宽度将减小。
参考答案:
对
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