集成电路技术综合练习问答题每日一练(2018.08.04)

问答题
常见的曝光光源？
答案：
紫外光源、深紫外光源。
问答题
“干净”的地是什么样地？
答案：
单独接出，不与其它器件共用的地
问答题
什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？
答案：
光刻就是通过一系列生产步骤，将晶圆薄膜的特定部分去除的工艺。
流程有晶圆涂光刻胶、曝光、显影、烘干。
问答题
世界上第一片集成电路是哪一年在哪儿制造出来的？发明人哪一年为此获得诺贝尔奖？
答案：
Jackkilby德州仪器公司1958年发明2000获诺贝尔奖
问答题
按比例缩小的三种方案是什么？
答案：
恒电场、恒电压、准恒电压