• 首页

  • 题库

  • 网课

  • 在线模考

  • 搜标题
  • 搜题干
  • 搜选项
题目列表

集成电路工艺原理判断题每日一练(2017.03.24)

  • 判断题

    在半导体产业界第一种类型的CVD是APCVD。

    答案:正确
  • 判断题

    氧化物有两个生长阶段来描述,分别是线性阶段和抛物线阶段。

    答案:正确
  • 判断题

    P是VA族元素,其掺杂形成的半导体是P型半导体。

    答案:正确
  • 判断题

    反刻是一种传统的平坦化技术,它能够实现全局平坦化。

    答案:错误
  • 判断题

    高阻衬底材料上生长低阻外延层的工艺称为正向外延。

    答案:错误

版权所有©考试资料网(ppkao.com) 长沙求知信息技术有限公司 All Rights Reserved

湘公网安备 43010202000353号备案号: 湘ICP备14005140号-2

经营许可证号 : 湘B2-20140064